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      氧化銦錫主要的特性分析

      2021-02-19 17:45:30

      氧化銦錫主要的特性是其電學傳導和光學透明的組合。然而,薄膜沉積中需要作出妥協,因為高濃度電荷載流子將會增加材料的電導率,但會降低它的透明度。

      氧化銦錫薄膜*通常是物理氣相沉積、或者一些濺射沉積技術的方法沉積到表面。

      氧化銦錫

      因為銦的價格高昂和供應受限、ITO層的脆弱和柔韌性的缺乏、以及昂貴的層沉積要求真空,其它取代物正被設法尋找。碳納米管導電鍍膜是一種有前景的替代品(石墨烯是*佳的替代品)。這類鍍膜正在被Eikos發展成為廉價、力學上更為健壯的ITO替代品。PEDOT和PEDOT:PSS已經被愛克發和H.C. Starck制造出來.PEDOT:PSS層已經進入應用階段(但它也有當暴露與紫外輻射下時它會降解以及一些其他的缺點)。別的可能性包括諸如鋁-參雜的鋅氧化物。

      氧化銦錫應用領域:

      ITO主要用于制作液晶顯示器、平板顯示器、等離子顯示器、觸摸屏、電子紙、有機發光二極管、以及太陽能電池、和抗靜電鍍膜還有EMI屏蔽的透明傳導鍍膜。

      ITO也被用于各種光學鍍膜,*值得注意的有建筑學中紅外線-反射鍍膜(熱鏡)、汽車、還有鈉蒸汽燈玻璃等。別的應用包括氣體傳感器、抗反射膜、和用于VCSEL激光器的布拉格反射器。

      ITO薄膜應力規可以在高于1400°C及嚴酷的環境中使用,例如氣體渦輪、噴氣引擎、還有火箭引擎。

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